西安某半导体材料鑫霖环保芯片打造厂，晶圆鑫霖环保全过程中造成含硅、氟的特种生产废水整理的方法，设计方案清理范围1200吨/日。生产废水整理的方法因素僵化，包含微米级硅颗粒剂及氢佛酸，普通清理的方法根本无法考核标准。 化工废水物质及来源地 重点环境破坏物 ：电解质溶液硅（100-500nm比表面积）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素制作工艺 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP化学物质机戒打磨抛光污水（40%）、设施设备洗水（15%） 清理工艺步骤流程步骤流程 企业创新用到"化工发展+特种作业膜剥离 "系统自驾线路： 钙盐发展 ：添加氯化钙快速清理氟化合物（添加CaF2发展） 水解酸化池作用 ：复合型斜板沉淀池剂体现悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔的直径膜挤占微细小粒 反固化软件系统 ：脱盐率>98%，收集率75% 汽化析出 ：浓水段实现目标氟化物零的排放 从而成效 氟化物氧化还原电位：<8mg/L（高出国度一层细则10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水市场回收率：70%代替冷去塔皮肤补水 危废处理减轻：蒸馏残留量较过去的生产技术削减60%