某半导体材料存储芯片所产生厂在晶圆加工生产的时候中，运行硅烷使用硅概念成长，烟气洗洁塔所产生高浓硫酸浓度含硅工业废污水。工业废污水存在pH振幅大（2-11）、硅含水量高的优点和缺点，传统意义治理工艺易现身硅垢梗塞情况。 废水处理方法基本成分及主要来源 工业废水核心因素为： 溶解度性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢氧化的钠 ：洗衣塔碱酸洗衣液使用量 小粒硅 ：nm级SiO₂橡胶胶体部分 痕量砷 ：原辅料残渣带去 整理施工工艺步奏 改革创新分为"有级采和+膜筛选+减压蒸馏结晶体"工艺技术： 1阶段结合 ：用CaO设定pH至4-5，导出硅酸钙沉淀物中，硅洗去率60%。 两级中合 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，进一点石雕文化沉淀剩余时间硅，并接用镁剂除砷。 反渗透装置机系统 ：0.02μm瓷质膜筛选nm级硅颗料，通量稳定可靠在80LMH。 MVR冷疑器器 ：浓缩液高盐废水处理，结晶体出Na₂SO₄副新产品，水中水回用率超90%。 结果治疗效果 总硅从1500mg/L降落到5mg/L以內 砷硫含量从0.8mg/L减少为0.01mg/L 机系统无积垢操作多于2年 每月收集硫酸钠钠结晶体约800吨